蓝鲸兆声波清洗机

简单来说，兆声波清洗机是一种利用频率极高的声波（通常在 800 kHz 到 2 MHz 之间）进行精密清洗的高端设备。 它不同于我们常见的普通超声波清洗机，主要应用于对清洁度要求极高、且工件极其精密的领域。

兆声波清洗的核心并非依赖强力的空化爆破，而是高频声波产生的强大声压梯度。这种梯度会在液体中形成非常稳定和快速的声学微流。

您可以想象成：

• 普通超声波：像用高压水枪（空化气泡溃灭）去冲洗一堵有顽固污渍的墙，力量很大，但如果墙是精致的浮雕（精密元件），可能会被冲坏。
• 兆声波：像用无数把极其柔软、高速流动的“小刷子”（声学微流），深入到浮雕的每一个缝隙里，将灰尘轻轻地“搓”出来，而不会损伤浮雕本身。

这种特性使得兆声波清洗能够有效清除普通超声波和化学清洗都难以去除的、附着在极细微结构上的颗粒污染物。

产品特点

优点与局限性

优点：

• 高精度无损清洗：可清洗亚微米级污染物而不损伤基底。
• 清洗均匀性好：声场分布均匀，没有清洗死角。
• 减少化学品依赖：强大的物理清洗能力可以减少强酸、强碱等化学试剂的使用，更环保。
• 穿透性强：能有效清洗具有复杂微结构、深孔、狭缝的工件。

局限性：

技术复杂：对工艺参数（频率、功率、温度、化学液匹配）的控制要求非常精确。

成本高昂：设备价格远高于普通超声波清洗机。

对于大颗粒、厚膜污垢效果不佳：因其能量过于温和，对付顽固油污不如低频超声波。

产品视频

应用范围

兆声波清洗机是高端制造业，尤其是半导体行业的“净化卫士”。

医疗器件和生物技术：清洗精密的手术器械、微流控芯片等。

半导体制造：这是最主要的应用领域。在芯片制造过程中，硅晶圆需要经过数十道工序，任何微小的颗粒污染物都可能导致电路短路或性能失效。兆声波清洗被广泛应用于光刻胶去除、抛光后清洗、刻蚀后清洗等关键步骤，确保晶圆表面的超高标准洁净度。

微机电系统（MEMS）：MEMS器件内部有非常精细的可动结构，普通超声波强大的冲击力会摧毁这些结构，而兆声波则能安全有效地完成清洗。

精密光学：用于清洗激光镜片、光纤接头等对表面划痕有严格要求的元件。